Công nghệ chế tạo, cấu trúc, tính chất quang của Nano sixốp và của hệ chấm lượng tử Ge/Si
Tác giả: Ngô, Thanh Tâm; GS.TS. Phan, Hồng Khôi [ Người hướng dẫn 1]; PGS.TS. Lê, Thị Trọng Tuyên [ Người hướng dẫn 2].
Kiểu tài liệu: SáchXuất bản: Hà Nội Viện Khoa học Vật liệu 2003Mô tả vật lý: 26tr.Chủ đề: Hệ chấm lượng tử Ge/Si | Khoa học vật liệu | Nano si xốp | Quang huỳnh quang | Vật liệuGhi chú luận văn: Tóm tắt luận án Tiến sĩ Khoa học Vật liệuViện Khoa học Vật liệu Tóm tắt: Luận án đã xây dựng và phát triển phương pháp nghiên cứu mối tương quan giữa cấu trúc và tính chất quang huỳnh quang của nano si xốp; các mode dao động và phổ quang huỳnh quang được ghi nhận bằng phương pháp micro - raman và micro - quang huỳnh quang trên cùng một vị trí mẫu. Hệ chấm lượng tử Ge/Si là đối tượng được quan tâm đặc biệt bởi có khả năng cải thiện tính chất quang và tính chất điện so với cấu trúc chuyển tiếp di thể thông thường. Để phát triển hiệu suất cầm giữ lượng tử cần thiết chế tạo dược chấm lượng tử Ge có kích thước cỡ vài chục nanomet với hàm phân bố kích thước hẹp. Luận án trình bày công nghệ tạo chấm lượng tử Ge bằng phương pháp lắng đọng hóa học có chọn lọcKiểu tài liệu | Kho hiện tại | Ký hiệu phân loại | Trạng thái | Ghi chú | Ngày hết hạn | ĐKCB | Số lượng đặt mượn |
---|---|---|---|---|---|---|---|
Luận án, Luận văn |
Trung tâm Thông tin - Tư liệu
Trung tâm Thông tin - Tư liệu |
Sẵn sàng | Tóm tắt luận án | LA29/341 |
Tóm tắt luận án Tiến sĩ Khoa học Vật liệu
Viện Khoa học Vật liệu
Luận án đã xây dựng và phát triển phương pháp nghiên cứu mối tương quan giữa cấu trúc và tính chất quang huỳnh quang của nano si xốp; các mode dao động và phổ quang huỳnh quang được ghi nhận bằng phương pháp micro - raman và micro - quang huỳnh quang trên cùng một vị trí mẫu. Hệ chấm lượng tử Ge/Si là đối tượng được quan tâm đặc biệt bởi có khả năng cải thiện tính chất quang và tính chất điện so với cấu trúc chuyển tiếp di thể thông thường. Để phát triển hiệu suất cầm giữ lượng tử cần thiết chế tạo dược chấm lượng tử Ge có kích thước cỡ vài chục nanomet với hàm phân bố kích thước hẹp. Luận án trình bày công nghệ tạo chấm lượng tử Ge bằng phương pháp lắng đọng hóa học có chọn lọc
Hiện tại chưa có bình luận nào về tài liệu này.