Photoresist : materials and processes /
Tác giả: DeForest, William S.
Kiểu tài liệu: SáchXuất bản: New York : McGraw-Hill, [1975]Mô tả vật lý: 269 p. 24 cm.Số ISBN: 0070162301.Chủ đề: Photoresists | Integrated circuits | Printed circuitsKiểu tài liệu | Kho hiện tại | Ký hiệu phân loại | Trạng thái | Ngày hết hạn | ĐKCB | Số lượng đặt mượn |
---|---|---|---|---|---|---|
Sách chuyên khảo |
Trung tâm Thông tin - Tư liệu
Trung tâm Thông tin - Tư liệu |
621.381.73 (Xem kệ sách) | Sẵn sàng | ISI.LV01210 |
Tổng số đặt mượn: 0
Thư viện: Trung tâm Thông tin - Tư liệu , Kho tài liệu: Phòng thư viện Thoát
621.381.71 Linear integrated networks: fundamentals | 621.381.73 Linear integrated networks: design | 621.381/73 The TTL data book for design engineers, | 621.381.73 Photoresist : | 621.381/73 circuits intégrés lineaires : | 621.381/73 Logic TTL intégrés circuits ; | 621.38105 Circuits with semiconductor components / |
Includes bibliographical references and index.
Hiện tại chưa có bình luận nào về tài liệu này.